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奧坤鑫:等離子體射流源處理材料表面研究
2016.06.28
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  【等離子Plasma】低溫等離子體的特殊性能可以對(duì)金屬、半導(dǎo)體、高分子材料等進(jìn)行表面改性。材料表面改性的等離子體改性技術(shù)已廣泛應(yīng)用于電子、機(jī)械、紡織、生物醫(yī)學(xué)工程等領(lǐng)域。
 
  目前,低溫等離子體與材料相互作用的研究已經(jīng)發(fā)展成為國(guó)際上活躍的領(lǐng)域。研究其相互作用的物理化學(xué)過(guò)程機(jī)理,是發(fā)展微電子學(xué)、固體表面改性、功能材料等材料領(lǐng)域里的重要課題。低溫等離子體高的活性,在室溫下可以引起多種化學(xué)反應(yīng)或物理?yè)诫s,而基質(zhì)材料的本體性能不受影響。
 
  等離子體化學(xué)氣相沉積(CVD)物理氣相沉積(PVD)方法已廣泛用于制備功能材料,顯示出低溫等離子體對(duì)材料表面改性有著較大的優(yōu)勢(shì)?!?a href="http://www.yunfei188.com/">常壓等離子設(shè)備
 
  通過(guò)低溫等離子體表面處理,材料表面發(fā)生多種的物理,化學(xué)變化,或產(chǎn)生刻蝕而粗糙,或形成致密的交聯(lián)層,或引入含氧極性基團(tuán),使材料的親水性、粘結(jié)性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。
 
  低溫等離子體技術(shù)在有機(jī)材料上的應(yīng)用有很大的優(yōu)勢(shì),它的優(yōu)點(diǎn)如下:①屬于干式工藝,省能源,無(wú)公害,滿足節(jié)能和環(huán)保的需要;②時(shí)間短,效率高;③對(duì)所處理的材料無(wú)嚴(yán)格要求,具有普遍適應(yīng)性;④可處理形狀復(fù)雜的材料,材料表面處理的均勻性好;⑤反應(yīng)環(huán)境溫度低;⑥對(duì)材料表面的作用僅涉及幾到幾百納米,材料表面性能改善的同時(shí),基體性能不受影響。【真空等離子設(shè)備

 
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